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氮化硅基片的特点
2023-06-01    316

氮化硅(Si3N4)是一种在高温和化学腐蚀环境下表现出优异性能的陶瓷材料,常用作制备氮化硅基片。氮化硅基片具有以下特点:


1. 高温稳定性:氮化硅基片可以在高温下稳定工作,其熔点高达1900℃。


2. 化学稳定性:氮化硅基片可以抵御许多腐蚀性化学物质的侵蚀。


3. 机械强度大:氮化硅基片具有很高的强度和硬度,可以承受较大的机械载荷。


4. 电特性良好:氮化硅基片是一种良好的电绝缘体,具有较高的介电强度和介电常数。


5. 光学性能佳:氮化硅基片对可见光及近红外光的透过率较高,也具有良好的发光和荧光特性。


综上所述,氮化硅基片在高温、化学、机械、电学和光学性能方面表现出优异特点,因此广泛应用于半导体、太阳能、化学等领域。


氮化硅基片